Máster en Propiedad Industrial,
Intelectual y Nuevas Tecnologías

• Inicio: Octubre 2009
• Duración: un año académico (octubre-junio)  
• Lugar: sede de la Fundación. C/ Serrano, 138. 28006 Madrid
• Horario: Tarde, de 17:00 a 21:00 h

1. OBJETIVOS
2. METODOLOGÍA
3. CLAUSTRO
4. DATOS GENERALES
5. EVALUACIÓN
6. CONDICIONES ECONÓMICAS
7. ESTRUCTURA DEL CURSO
8. FUTURO PROFESIONAL
9. PROCESO DE ADMISIÓN

Más información:
Fundación José PONS · Tlf. 902 43 18 68/ 91 562 46 33 
E-mail: fundacion@pons.es

www.fundacionjosepons.org
www.urjc.es/ih